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硅基质上图案化金膜的制备
作者: 李丽 [1,2] ; 杨合情 [2] ; 马俊红 [1]
关键词: 图案 金膜 光刻 硅基质
摘要:介绍了一项材料化学综合实验。该实验利用紫外光刻技术在硅基底上制备出图案化的金膜,采用冷热台偏光显微镜对硅片上图形的质量进行检查。通过该实验,不仅可以了解光刻技术的相关基础知识,掌握图案化金膜的常见制备方法和常用表征手段,还能在后续的实验中以图案化Au膜作为模板,设计制备出多种图案化的半导体、聚合物纳米结构。该实验可以在本科生及研究生实验教学中推广。
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