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光学发射谱在硫掺杂金刚石薄膜制备中的应用

作者: 葛大勇 ; 赵庆勋 ; 杨保柱 ; 何雷

关键词: 金刚石薄膜 光学发射谱 n型掺杂 硫掺杂

摘要:利用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,制备硫掺杂n型金刚石薄膜,利用光学发射谱技术对其生长环境进行原位诊断,分析合成机理及生长的最佳条件。结果表明,合成金刚石薄膜的合成反应区中主要粒子为CH、CH+、活性H原子,提高工作气压和硫碳配比浓度有利于提高硫掺杂浓度,在低温条件下合成了高品质的硫掺杂n型金刚石薄膜。


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